uv光氧和等離子廢氣處理設備各采用什麽原理？

對于光氧等離子廢氣處理設備主要是利用了等離子分解技術和UV紫外光解技術結合，對廢氣和臭氣進行(xíng)高效協同淨化處理：有機廢氣和惡臭氣體進入集成設備後，經過UV紫外光束區時，被紫外光波高能高效率地(dì)照射，瞬間産生光解反應；經過等離子體電場時，在納秒級時間範圍内，産生裂變分解反應；如(rú)此協同高效地(dì)産生一系光解和分解反應，經過多級淨化後從而達标排放。C波段光氧催化廢氣治理技術，是一種利用新型的複合納米高科技功能材料的技術，采用領(lǐng)先的三(sān)重祛異味原理。

1、一重淨化：采用UV雙波段照射廢氣分子，産生遊離電子及(jí)電子空穴，生成極強的光氧還原功能，可氧化分解各種有機化合物和部分無機化合物，廢氣分子吸收了紫外線的能量後，細菌分子的DNA（脫氧糖核酸）與核蛋白之(zhī)間的斷裂，造成核酸與蛋白的交聯(lián)破壞，達到一重除臭淨化作(zuò)用；

2、二重淨化：光氧催化在釋放大量C波段紫外線氧化分解惡臭廢氣分子同時并産生臭氧，臭氧極易分解，有很強的氧化性能破壞分解細菌的細胞壁，能很快地(dì)擴散透進細胞内，氧化分解有毒有害的廢氣分子，直接破壞廢氣大分子聚合物。

3.三(sān)重淨化：光觸媒納米粒子在特定波長的光線照射下受激生成電子空穴對，空穴分解催化劑表面吸附的水産生氫氧自由基，電子使其周圍的氧還原成活性離子氧，從而具備極強的氧化還原作(zuò)用，将光催化劑表面的各種污染物摧毀，最後将其分解成無污染的水（H2O）和二氧化碳（CO2）。       

低溫等離子廢氣處理機理包含兩個方面：一是在高壓放電産生等離子體的過程中，高頻放電所産生的瞬間高能足夠打開一些有害氣體分子的化學能，使之(zhī)分解爲單質原子或無害分子；二是等離子體由于是高壓放電産生，其中包含大量的高能電子、正負離子、激發态粒子和具有強氧化性的自由基，這些活性粒子和部分臭氣分子碰撞結合，在電場作(zuò)用下，使臭氣分子處于激發态。當臭氣分子 獲得的能量大于其分子鍵能的結合能時，臭氣分子的化學鍵斷裂，直接分解成單質原子或由單一原子構成得無害氣體分子。同時産生的大量·OH、·HO2、·O 等活性自由基和氧化性極強的O3，與有害氣體分子發生化學反應，最終生成無害産物。